345156
四醋酸硅
98%
别名:
四乙酰氧基硅烷
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关于此项目
线性分子式:
Si(OCOCH3)4
化学文摘社编号:
分子量:
264.26
UNSPSC Code:
12352100
NACRES:
NA.22
PubChem Substance ID:
EC Number:
209-239-7
Beilstein/REAXYS Number:
994868
MDL number:
Assay:
98%
InChI key
YZVRVDPMGYFCGL-UHFFFAOYSA-N
InChI
1S/C8H12O8Si/c1-5(9)13-17(14-6(2)10,15-7(3)11)16-8(4)12/h1-4H3
SMILES string
CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)OC(C)=O
vapor density
>1 (vs air)
assay
98%
bp
148 °C/5 mmHg (lit.)
mp
111-115 °C (lit.)
storage temp.
−20°C
Quality Level
General description
正硅酸四乙酯是四氢化硅和醇盐的替代物，用于低温 SiO2 生产。在无水条件下，正硅酸四乙酯与乙醇反应，生成硅胶和乙酸乙酯。据报道，正硅酸四乙酯一种是溶胶-凝胶前体。
Application
正硅酸四乙酯可用于通过直接光化学气相沉积法制备二氧化硅薄膜。正硅酸四乙酯可以用作与单官能双配位基Schiff碱合成硅配合物的原料。
signalword
Danger
hcodes
Hazard Classifications
Skin Corr. 1B
存储类别
8A - Combustible corrosive hazardous materials
wgk
WGK 3
flash_point_f
Not applicable
flash_point_c
Not applicable
ppe
Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges
Synthesis of some ketimine derivatives of silicon (IV).
Singh RV and Tandon JP.
J. Prakt. Chem., 321(1), 151-158 (1979)
Silicon dioxide thin films prepared by chemical vapor deposition from silicon tetraacetate.
Maruyama T and Shionoya J.
Jpn J. App. Phys., Part I, 28(12A), L2253-L2253 (1989)
Silicon tetraacetate as a sol-gel precursor.
Coltrain BK, et al.
Journal of Sol-Gel Science and Technology, 3(2), 83-90 (1994)
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