345156
四醋酸硅
98%
别名:
四乙酰氧基硅烷
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关于此项目
线性分子式:
Si(OCOCH3)4
化学文摘社编号:
分子量:
264.26
UNSPSC Code:
12352100
NACRES:
NA.22
PubChem Substance ID:
EC Number:
209-239-7
Beilstein/REAXYS Number:
994868
MDL number:
Assay:
98%
InChI key
YZVRVDPMGYFCGL-UHFFFAOYSA-N
InChI
1S/C8H12O8Si/c1-5(9)13-17(14-6(2)10,15-7(3)11)16-8(4)12/h1-4H3
SMILES string
CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)OC(C)=O
vapor density
>1 (vs air)
assay
98%
bp
148 °C/5 mmHg (lit.)
mp
111-115 °C (lit.)
storage temp.
−20°C
Quality Level
General description
正硅酸四乙酯是四氢化硅和醇盐的替代物，用于低温 SiO2 生产。在无水条件下，正硅酸四乙酯与乙醇反应，生成硅胶和乙酸乙酯。据报道，正硅酸四乙酯一种是溶胶-凝胶前体。
Application
正硅酸四乙酯可用于通过直接光化学气相沉积法制备二氧化硅薄膜。正硅酸四乙酯可以用作与单官能双配位基Schiff碱合成硅配合物的原料。
signalword
Danger
hcodes
Hazard Classifications
Skin Corr. 1B
存储类别
8A - Combustible corrosive hazardous materials
wgk
WGK 3
flash_point_f
Not applicable
flash_point_c
Not applicable
ppe
Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges
Silicon tetraacetate as a sol-gel precursor.
Coltrain BK, et al.
Journal of Sol-Gel Science and Technology, 3(2), 83-90 (1994)
Silicon dioxide thin films prepared by chemical vapor deposition from silicon tetraacetate.
Maruyama T and Shionoya J.
Jpn J. App. Phys., Part I, 28(12A), L2253-L2253 (1989)
Synthesis of some ketimine derivatives of silicon (IV).
Singh RV and Tandon JP.
J. Prakt. Chem., 321(1), 151-158 (1979)
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