推荐产品
等级
certified reference material
质量水平
Agency
suitable for EPA 200.7
产品线
Certipur®
浓度
1000 mg/L P in H2O
技术
ICP: suitable
pH值（酸碱度）
1 (20 °C in H2O)
密度
1.000 g/cm3 at 20 °C
应用
industrial qc
pharmaceutical
包装形式
single component solution
储存温度
15-25°C
相关类别
一般描述
该认证标准物质（CRM）根据ISO 17034生产，根据ISO/IEC 17025表征。该CRM可追溯至 SI 单位kg，并且以来自国家计量研究院（NMI）如NIST的基准物质为基准进行测量。
请浏览ISO 证书和现场质量自评以查阅当前的鉴定证书。
在http://www.sigma-aldrich.com下载您的证书以查看认证值，包括不确定性和失效日期，以及痕量杂质的详信息。
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应用
磷 ICP 标准品可用作：
- 通过ICP-OES和ICP-MS估算植物种子中的金属和磷
- 通过电感耦合等离子体四极质谱（(ICP-QMS）定量测定蛋白质样品中的磷
- 开发和确认一种电感耦合等离子体-光学发射光谱（ICP-OES）方法用于测定独居石样品中的稀土元素、钍、钇和磷。
- 对比分析电感耦合等离子体-质谱（ICP-MS）和比色法以测定土壤中的总磷和可提取磷
- 电化学测定运河水样品中的溶解磷
- 通过 ICP-OES测定市售无机化肥中的磷和钾含量
磷标准品可作为校准标准品用于通过四极杆电感耦合等离子体质谱法(ICP-QMS)测定蛋白质样品中的磷含量。
分析说明
含有1000 mg/L P的水溶液，使用高纯度H3PO4和水配制。
其他说明
有关我们ICP和AAS标准物质系列的完整产品列表、技术信息和示例证书，请访问我们的ICP & AAS标准品页面。
ICP-AAS的完整分析流程请参阅手册：无机微量分析用高纯度化学品
为了配合可持续发展宗旨，我们将数字化COA方便从网站直接下载。
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法律信息
CERTIPUR is a registered trademark of Merck KGaA, Darmstadt, Germany
储存分类代码
10 - Combustible liquids
WGK
nwg
法规信息
危险化学品
Metals and phosphorus determination in vegetable seeds used in the production of biodiesel by ICP OES and ICP-MS
Chaves ES, et al.
Microchemical Journal, Devoted to the Application of Microtechniques in All Branches of Science, 96(1), 71-76 (2010)
Method validation and uncertainty for the determination of rare earth elements, yttrium, thorium and phosphorus in monazite samples by ICP-OES
Padmasubashini V, et al.
Chemistry International, 6(3), 98-109 (2020)
Rapid and portable electrochemical quantification of phosphorus
Kolliopoulos A, et al.
Analytical Chemistry, 87(8), 4269-4274 (2015)
Determination of phosphorus and potassium in commercial inorganic fertilizers by inductively coupled plasma-optical emission spectrometry: single-laboratory validation
Bartos JM, et al.
Journal of AOAC (Association of Official Analytical Chemists) International, 97(3), 687-699 (2014)
Protein phosphorylation stoichiometry by simultaneous ICP-QMS determination of phosphorus and sulfur oxide ions: a multivariate optimization of plasma operating conditions
Ciavardelli D, et al.
Talanta, 80(4), 1513-1525 (2010)
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