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1,1,1,3,3,3-六氟-2-丙醇

Name: 1,1,1,3,3,3-六氟-2-丙醇
Brand: SUPELCO

for LC-MS LiChropur^™

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别名:

HFP, 六氟异丙醇

线性分子式:

(CF₃)₂CHOH

CAS号:

920-66-1

分子量:

168.04

Beilstein:

1841007

MDL编号:

MFCD00011651

检测方案

≥99.8% (GC)

形式

liquid

质量

for LC-MS LiChropur^™

杂质

≤0.02% water

折射率

n20/D 1.275 (lit.)

bp

59 °C (lit.)

mp

−4 °C (lit.)

密度

1.596 g/mL at 25 °C (lit.)

痕量阳离子

Al: ≤0.5 ppm
Ca: ≤0.5 ppm
Cu: ≤0.02 ppm
Fe: ≤0.1 ppm
K: ≤2 ppm
Mg: ≤0.1 ppm
Na: ≤10 ppm

适用性

passes test for LC-MS (ESI/APCI pos. < 10 ppb)

SMILES string

OC(C(F)(F)F)C(F)(F)F

InChI

1S/C3H2F6O/c4-2(5,6)1(10)3(7,8)9/h1,10H

InChI key

BYEAHWXPCBROCE-UHFFFAOYSA-N

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一般描述

1,1,1,3,3,3-Hexafluoro-2-propanol(HFIP) is a thermally stable, highly polar, UV-transparent solvent that is misciblewith water and many polar organic solvents. It is used as a mobile phaseadditive in liquid chromatography-mass spectrometry (LC-MS) method to improveseparation and detection.

应用

1,1,1,3,3,3-Hexafluoro-2-propanol can be used as a:

Buffer additive for LC-ESI-MS to separate acidic and basic compounds.
Eluent additive in the UHPLC-MS/MS method to improve the chromatographic separation of basic and zwitterionic compounds.

法律信息

LiChropur is a trademark of Merck KGaA, Darmstadt, Germany

警示用语：

Danger

危险声明

H314 - H361 - H373

预防措施声明

P202 - P260 - P280 - P303 + P361 + P353 - P304 + P340 + P310 - P305 + P351 + P338

危险分类

Eye Dam. 1 - Repr. 2 - Skin Corr. 1A - STOT RE 2

储存分类代码

8A - Combustible, corrosive hazardous materials

WGK

WGK 2

闪点(°F)

closed cup - boils before flash

闪点(°C)

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索取COA

1, 1, 1, 3, 3, 3-Hexafluoro-2-propanol

Phillips AJ and Roach JJ

e-EROS Encyclopedia of Reagents for Organic Synthesis, 1-9 (2001)

Retention mechanisms of acidic and basic analytes on the Pentafluorophenyl stationary phase using fluorinated eluent additives

Lossmann K, et al.

Journal of Chromatography A, 1666, 462850-462850 (2022)

Fluoroalcohols as novel buffer components for basic buffer solutions for liquid chromatography electrospray ionization mass spectrometry: retention mechanisms

Kipper K, et al.

Journal of Chromatography A, 1218(45), 8175-8180 (2011)

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折射率

bp

mp

密度

痕量阳离子

适用性

SMILES string

InChI

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