18649
二氧化硅
acid washed
别名:
方石英, 石英, 砂石, 硅石
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关于此项目
线性分子式:
SiO2
化学文摘社编号:
分子量:
60.08
NACRES:
SB.52
PubChem Substance ID:
UNSPSC Code:
12352303
MDL number:
产品名称
二氧化硅, acid washed
InChI
1S/O2Si/c1-3-2
SMILES string
O=[Si]=O
InChI key
VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N
form
solid
quality
acid washed
impurities
≤0.01% in acid soluble iron (Fe)
≤0.5% soluble in HCl
loss
≤0.5% loss on ignition, 800 °C
refractive index
n20/D 1.544 (lit.)
Quality Level
matrix
Silicon dioxide base material
mp
1610 °C (lit.)
density
2.6 g/mL at 25 °C (lit.)
anion traces
chloride (Cl-): ≤100 mg/kg
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Application
二氧化硅可用于在氯化钙（CaCl2）电解质存在下通过电化学还原反应生产硅的方法.也可用于制备 FeCl3/SiO2（一种负载型试剂），用于氧化偶联反应。
General description
二氧化硅（SiO2）以三种晶体形式存在，即石英、鳞石英和方石英。 它与氢氟酸反应生成四氟化硅（SiF4） 和水。在 SiO2与碱熔体反应时形成硅酸盐。 SiO2是玻璃、砖和混凝土中的主要成分，也是硅器件中的绝缘体。已经报道了用（3-氨基丙基）三乙氧基硅烷（APTES）改变SiO2的表面以结合乳酸脱氢酶（LDH）以形成氨基层。通过电子自旋共振谱研究了在液氮温度下的硅-二氧化硅结构。
存储类别
11 - Combustible Solids
wgk
nwg
flash_point_f
Not applicable
flash_point_c
Not applicable
ppe
Eyeshields, Gloves, type N95 (US)
Iron trichloride/silicon dioxide reacts as oxidant or Lewis acid with phenol ethers.
Jempty TC, et al.
The Journal of Organic Chemistry, 46(22), 4545-4551 (1981)
Study of silicon-silicon dioxide structure by electron spin resonance I.
Nishi Y.
Japanese Journal of Applied Physics, 10(1), 52-52 (1971)
Pinpoint and bulk electrochemical reduction of insulating silicon dioxide to silicon.
Nohira T, et al.
Nature Materials, 2(6), 397-401 (2003)
Surface modification of silicon dioxide, silicon nitride and titanium oxynitride for lactate dehydrogenase immobilization.
Saengdee P, et al.
Biosensors And Bioelectronics, 67, 134-138 (2015)
Electronic structure of silicon dioxide (a review).
Nekrashevich SS and Gritsenko VA.
Physics of the Solid State, 56(2), 207-222 (2014)
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