440191
六甲基二硅氮烷
reagent grade, ≥99%
别名:
Dow Corning® 产品 Z-6079, 双(三甲基硅烷基)胺, HMDS
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关于此项目
等级
reagent grade
质量水平
方案
≥99%
表单
liquid
折射率
n20/D 1.407 (lit.)
沸点
125 °C (lit.)
SMILES字符串
C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C
InChI
1S/C6H19NSi2/c1-8(2,3)7-9(4,5)6/h7H,1-6H3
InChI key
FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N
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一般描述
应用
- 作为硅烷化剂,用于近中性条件下醇类的三甲基硅烷化反应。
- 在α-氨基酸N-羧基酸酐的开环聚合反应中控制多肽分子量。
- 通过等离子体增强化学气相沉积(CVD)制备碳氮化硅薄膜。
- 用于扫描电镜的标本制备,以及羟基化合物制备三甲基硅醚。
特点和优势
- 强化学稳定性和低分子量
- 无毒性的实惠试剂
- 硅烷化反应的唯一副产物只有氨
- HDMS硅烷化反应近中性,无需采取任何特别措施
警示用语:
Danger
危险分类
Acute Tox. 3 Dermal - Acute Tox. 4 Inhalation - Acute Tox. 4 Oral - Aquatic Chronic 3 - Flam. Liq. 2
储存分类代码
3 - Flammable liquids
WGK
WGK 2
闪点(°F)
52.5 °F - closed cup
闪点(°C)
11.4 °C - closed cup
个人防护装备
Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter
法规信息
with hexamethyldisilazane (HMDS) catalysed by in situ generated I2
using OxoneR /KI or cerium ammonium nitrate (CAN)/KI systems
under mild conditions
商品
atomic layer deposition (ALD), microelectronics, Mo:Al2O3 films, nanocomposite coating, photovoltaics, semiconductor devices, W:Al2O3 films, composite films, layer-by-layer
Spintronics offer breakthroughs over conventional memory/logic devices with lower power, leakage, saturation, and complexity.
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Synthesis of Melting Gels Using Mono-Substituted and Di-Substituted Alkoxysiloxanes
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