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Sigma-Aldrich

三（二甲氨基）硅烷

packaged for use in deposition systems

别名:

三（二甲氨基）硅烷, (Me2N)3SiH, N,N,N′,N′,N′′, N′′-六甲基硅烷三胺, 三（二甲基氨基）硅烷, N,N,N′,N′,N′′′,N′′′-六甲基硅烷三胺, TDMA

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About This Item

线性分子式:
((CH3)2N)3SiH
CAS Number:
15112-89-7
分子量:
161.32
EC 号:
239-165-0
MDL编号:
MFCD00048006
UNSPSC代码:
12352103
PubChem化学物质编号:
329766793
NACRES:
NA.23

质量水平

100

方案

≥99.9% (GC)

表单

liquid

沸点

142 °C (lit.)

mp

−90 °C (lit.)

密度

0.838 g/mL at 25 °C (lit.)

SMILES字符串

CN(C)[SiH](N(C)C)N(C)C

InChI

1S/C6H19N3Si/c1-7(2)10(8(3)4)9(5)6/h10H,1-6H3

InChI key

TWVSWDVJBJKDAA-UHFFFAOYSA-N

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一般描述

三(二甲氨基)硅烷是一种具有高挥发性和热稳定性的有机硅化合物，广泛用作气相沉积前驱体，制造用于太阳能电池、燃料电池催化剂和半导体等各种应用的含硅薄膜。沉积可以在低衬底温度下进行（<150）。TDMAS的熔点和蒸气压在合适的工作范围内，是非常好的气相沉积前驱体。

应用

三(二甲氨基)硅烷可用于：
  • 作为原子层沉积法将硅酸铝沉积到染料敏化太阳能电池TiO2阳极上的硅源。
  • 作为制造锂离子电池功能化硅增强隔膜的前驱体。

警示用语：

Danger

危险分类

Acute Tox. 3 Dermal - Acute Tox. 3 Inhalation - Acute Tox. 4 Oral - Eye Dam. 1 - Flam. Liq. 2 - Skin Corr. 1B - Water-react 2

补充剂危害

EUH029

储存分类代码

4.3 - Hazardous materials which set free flammable gases upon contact with water

WGK

WGK 3

闪点(°F)

16.0 - 32.0 °F - closed cup

闪点(°C)

-8.89 - 0.00 °C - closed cup

历史批次信息供参考:

分析证书(COA)

Lot/Batch Number
SHBR0510
SHBJ8726
SHBG7213V
SHBG2008V
SHBC4237V

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