蒸汽压
0.03 mmHg ( 40 °C)
质量水平
检测方案
98%
reaction suitability
core: iron
reagent type: catalyst
bp
249 °C (lit.)
mp
172-174 °C (lit.)
λmax
358 nm
储存温度
2-8°C
SMILES string
[Fe].[CH]1[CH][CH][CH][CH]1.[CH]2[CH][CH][CH][CH]2
InChI
1S/2C5H5.Fe/c2*1-2-4-5-3-1;/h2*1-5H;
InChI key
DFRHTHSZMBROSH-UHFFFAOYSA-N
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应用
- 用作不对称催化中的手性配体支架。
- 染料敏化太阳能电池应用中的二茂铁基电解质。
- 合成不对称二茂铁配体，可用作交叉偶联、氢化、烯丙基取代的催化剂。
- 通过化学气相沉积法合成二维六方有序介孔碳（CMK-5），用作甲醇氧化的催化剂载体。
- 合成二茂铁与富勒烯的分子杂化物（巴基二茂铁）。
- 制备二茂铁盐，用作温和氧化剂。
警示用语：
Danger
危险分类
Acute Tox. 4 Inhalation - Acute Tox. 4 Oral - Aquatic Chronic 1 - Flam. Sol. 1 - Repr. 1B - STOT RE 2 Inhalation
靶器官
Liver
储存分类代码
4.1B - Flammable solid hazardous materials
WGK
WGK 2
闪点(°F)
Not applicable
闪点(°C)
Not applicable
个人防护装备
Eyeshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges
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商品
Atomic layer deposition (ALD) techniques have emerged in the last ten years to meet various needs including semiconductor device miniaturization, conformal deposition on porous structures and coating of nanoparticles. ALD is based on two sequential self-limiting surface reactions.
近十年来出现了原子层沉积（ALD）技术以满足各种需求，包括半导体器件小型化、多孔结构上的保形沉积和纳米颗粒涂层。ALD基于两个相继的自限性表面反应。
我们的科学家团队拥有各种研究领域经验，包括生命科学、材料科学、化学合成、色谱、分析及许多其他领域.
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