vapor density
1.3 (vs air)
Quality Segment
Application
通过将具有纳米材料的基板浸入蚀刻剂溶液中30分钟，CE-200溶液可用于从化学气相沉积（CVD）石墨烯或碳酸膜中蚀刻出铜残留物或箔。
它是铜喷涂蚀刻的理想选择。氯化铁基铜蚀刻剂，在40°C下的蚀刻速率为0.5 mil/min。
signalword
Danger
hcodes
Hazard Classifications
Eye Dam. 1 - Met. Corr. 1 - Skin Corr. 1
存储类别
8B - Non-combustible corrosive hazardous materials
wgk
WGK 1
flash_point_f
Not applicable
flash_point_c
Not applicable
ppe
Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter