vapor density
1 (vs air)
Quality Segment
assay
98%
form
solid
bp
134 °C (lit.)
mp
50-64 °C (lit.)
SMILES string
C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1
InChI
1S/C6H18O3Si3/c1-10(2)7-11(3,4)9-12(5,6)8-10/h1-6H3
InChI key
HTDJPCNNEPUOOQ-UHFFFAOYSA-N
Application
六甲基环三硅氧烷(D3)可用于合成:
- 通过阴离子开环聚合合成聚硅氧烷。
- 通过脉冲等离子体增强化学气相沉积(PECVD)合成绝缘生物材料用薄膜。
- 使用碱金属氢氧化物催化剂通过碳酸二甲酯的解聚反应合成二甲氧基二甲基硅烷
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