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Merck
CN

251518

乙氧化三丁基锡

97%

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关于此项目

线性分子式:
[CH3(CH2)3]3SnOC2H5
化学文摘社编号:
分子量:
335.11
UNSPSC Code:
12352103
PubChem Substance ID:
MDL number:
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InChI

1S/3C4H9.C2H5O.Sn/c3*1-3-4-2;1-2-3;/h3*1,3-4H2,2H3;2H2,1H3;/q;;;-1;+1

SMILES string

CCCC[Sn](CCCC)(CCCC)OCC

InChI key

SDTAGBUVRXOKAK-UHFFFAOYSA-N

assay

97%

refractive index

n20/D 1.467 (lit.)

bp

92 °C/0.1 mmHg (lit.)

density

1.098 g/mL at 25 °C (lit.)

signalword

Danger

Hazard Classifications

Acute Tox. 3 Oral - Acute Tox. 4 Dermal - Aquatic Acute 1 - Aquatic Chronic 1 - Eye Irrit. 2 - Flam. Liq. 3 - Repr. 1B - Skin Irrit. 2 - STOT RE 1

存储类别

3 - Flammable liquids

wgk

WGK 3

flash_point_f

104.0 °F - closed cup

flash_point_c

40 °C - closed cup

ppe

Eyeshields, Faceshields, Gloves, type ABEK (EN14387) respirator filter

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Charith E Nanayakkara et al.
Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids, 33(24), 5998-6004 (2017-05-24)
Uniform and conformal deposition of tin oxide thin films is important for several applications in electronics, gas sensing, and transparent conducting electrodes. Thermal atomic layer deposition (ALD) is often best suited for these applications, but its implementation requires a mechanistic

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