一般描述
基于碱 - 适于 <110> 晶向 - 垂直壁蚀刻。
应用
蚀刻速率：100°C 下 1 密耳/3 分钟。只需去离子水冲洗即可蚀刻干净。不侵蚀金或二氧化硅
警示用语：
Danger
危险声明
危险分类
Acute Tox. 4 Oral - Eye Dam. 1 - Met. Corr. 1 - Skin Corr. 1A
储存分类代码
8B - Non-combustible corrosive hazardous materials
WGK
WGK 1
闪点(°F)
Not applicable
闪点(°C)
Not applicable
法规信息
新产品
此项目有
我们的科学家团队拥有各种研究领域经验，包括生命科学、材料科学、化学合成、色谱、分析及许多其他领域.
联系客户支持