跳转至内容
Merck
CN

Z552208

Sigma-Aldrich

Principles of Chemical Vapor Deposition: What′s Going on Inside the Reactor?

登录查看公司和协议定价

选择尺寸


关于此项目

ISBN-10:
1-4020-1248-9
ISBN-13:
978-1-4020-1248-8
UNSPSC代码:
55101509
技术服务
需要帮助?我们经验丰富的科学家团队随时乐意为您服务。
让我们为您提供帮助
技术服务
需要帮助?我们经验丰富的科学家团队随时乐意为您服务。
让我们为您提供帮助

出版信息

D.M. Dobkin and M.K. Zuraw, Kluwer Academic Publishers, 2003, 288 pp., hard cover

一般描述

Provides a simple introduction to heat and mass transfer, surface and gas phase chemistry, and plasma discharge characteristics. In addition, the book includes discussions of practical films and reactors to help in the development of better processes and equipment. This book will assist workers new to chemical vapor deposition (CVD) to understand CVD reactors and processes and to comprehend and exploit the literature in the field.

法规信息

新产品
此项目有

历史批次信息供参考:

分析证书(COA)

Lot/Batch Number

It looks like we've run into a problem, but you can still download Certificates of Analysis from our 文件 section.

如需帮助,请联系 客户支持

已有该产品?

在文件库中查找您最近购买产品的文档。

访问文档库

我们的科学家团队拥有各种研究领域经验,包括生命科学、材料科学、化学合成、色谱、分析及许多其他领域.

联系客户支持