等级
purum
方案
≥97.0% (GC)
折射率
n20/D 1.386 (lit.)
n20/D 1.386
沸点
186 °C (lit.)
密度
0.831 g/mL at 25 °C (lit.)
SMILES字符串
C[Si](C)(C)OB(O[Si](C)(C)C)O[Si](C)(C)C
InChI
1S/C9H27BO3Si3/c1-14(2,3)11-10(12-15(4,5)6)13-16(7,8)9/h1-9H3
InChI key
YZYKZHPNRDIPFA-UHFFFAOYSA-N
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其他说明
Reagent used in chemical vapor deposition, CVD for preparing thin layers of borosilicate glass
法规信息
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H. Treichel et al.
Proc. Electrochem. Soc., 90-14, 574-574 (1990)
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