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四（二甲基氨基）铪 (Ⅳ)

≥99.99%

别名:

TDMAH, 四(二甲胺基)铪(IV)

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关于此项目

线性分子式:
[(CH3)2N]4Hf
化学文摘社编号:
19782-68-4
分子量:
354.79
NACRES:
NA.23
PubChem Substance ID:
24869038
UNSPSC Code:
12352103
MDL number:
MFCD01862473
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assay

≥99.99%

form

low-melting solid

reaction suitability

core: hafnium

mp

26-29 °C (lit.)

density

1.098 g/mL at 25 °C

SMILES string

CN(C)[Hf](N(C)C)(N(C)C)N(C)C

InChI

1S/4C2H6N.Hf/c4*1-3-2;/h4*1-2H3;/q4*-1;+4

InChI key

ZYLGGWPMIDHSEZ-UHFFFAOYSA-N

General description

四(二甲基氨基)铪(IV)是一种 有机金属化合物，由中心的铪原子（Hf） 和周围的四个二甲基氨基配体（NMe2）组成。通常用作CVD/ALD前=体， 生产高质量的Hf薄膜 。它是一种低熔点 固体。

Application

四(二甲基氨基)铪(IV)可用于：
  • 作为原子层沉积（ALD）前驱体，沉积用于先进半导体器件的氧化铪薄膜。
  • 作为制造聚合物衍生陶瓷纳米复合材料的前驱体。
  • 使用三(异丙基-环戊二烯基)铈[Ce(iPrCp)3]前驱体和H2O，通过ALD法在Ge衬底上制备HfO2、CeO2和Ce掺杂HfO2薄膜。
  • 在150−250 °C的低衬底温度下用TDMAH和氨制备Hf3N4薄膜。

Analysis Note

纯度：锆含量低于 ~2000ppm。

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pictograms

FlameCorrosion
GHS02,GHS05

signalword

Danger

supp_hazards

EUH014

存储类别

4.3 - Hazardous materials which set free flammable gases upon contact with water

wgk

WGK 3

ppe

Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges

Hazard Classifications

Flam. Sol. 1 - Skin Corr. 1B - Water-react. 2

历史批次信息供参考:

分析证书(COA)

Lot/Batch Number
SHBS9247
SHBS6968
SHBK7010
SHBL1439
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全球贸易项目编号

货号GTIN
455199-25G04061833606742