496863
五（二甲基氨基）钽（V）
99.99%
别名:
PDMAT, TADMA, Ta(NMe2)5, 钽二甲基胺
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关于此项目
线性分子式:
Ta(N(CH3)2)5
化学文摘社编号:
分子量:
401.33
MDL编号:
UNSPSC代码:
12352103
PubChem化学物质编号:
NACRES:
NA.23
质量水平
方案
99.99%
表单
solid
反应适用性
core: tantalum
reagent type: catalyst
mp
100 °C (dec.) (lit.)
SMILES字符串
CN(C)[Ta](N(C)C)(N(C)C)(N(C)C)N(C)C
InChI
1S/5C2H6N.Ta/c5*1-3-2;/h5*1-2H3;/q5*-1;+5
InChI key
VSLPMIMVDUOYFW-UHFFFAOYSA-N
一般描述
基材原子数：73 钽
特点和优势
氮化钽 (TaN) 薄膜的挥发性固体 CVD 前体。当在沉积过程中存在 O2、H2O、NO 或 H2O2 时，还会形成氧化钽 (Ta2O5) 薄膜。 Ta2O5 薄膜作为集成电路制造中的栅电介质材料具有广阔的应用前景。
警示用语：
Danger
危险声明
危险分类
Eye Dam. 1 - Flam. Sol. 1 - Skin Corr. 1B - Water-react 1
储存分类代码
4.3 - Hazardous materials which set free flammable gases upon contact with water
WGK
WGK 3
闪点(°F)
Not applicable
闪点(°C)
Not applicable
个人防护装备
Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges
James E Maslar et al.
Applied spectroscopy, 74(10), 1219-1229 (2019-10-17)
A nondispersive infrared gas analyzer was demonstrated for investigating metal alkylamide precursor delivery for microelectronics vapor deposition processes. The nondispersive infrared analyzer was designed to simultaneously measure the partial pressure of pentakis(dimethylamido) tantalum, a metal precursor employed in high volume
商品
High Purity Metalorganic Precursors for CPV Device Fabrication
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