shelf life
1 yr (cool area away from direct sunlight)
pH
<2 (20 °C)
bp
204-304 °C (lit.)
density
1.00 g/mL at 25 °C (lit.)
storage temp.
2-8°C
Quality Level
General description
低 pH 值配方，用于去除固化到各种基底上的光致抗蚀剂。不腐蚀金属和氧化物。不含氯化烃、铬酸盐、酚或磷酸盐。在室温和高温下均性能良好。
作为负性光致抗蚀剂套装 654892 的一部分提供
signalword
Danger
hcodes
Hazard Classifications
Acute Tox. 4 Oral - Aquatic Chronic 2 - Asp. Tox. 1 - Carc. 2 - Eye Dam. 1 - Skin Corr. 1
存储类别
8A - Combustible corrosive hazardous materials
wgk
WGK 3
flash_point_f
204.8 °F
flash_point_c
96 °C
实验方案
Photoresist kit offers pre-weighed chemical components for lithographic processes, with separate etchants for various substrate choices.
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Technical Bulletins
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