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Sigma-Aldrich

铬蚀刻剂

standard

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MDL编号:
MFCD07370678
NACRES:
NA.23

等级

standard

组成

volatiles, 85%

颜色

orange

bp

100 °C/1 atm

密度

1.16 g/mL at 25 °C

相关类别

一般描述

  • 外观- 橙色透明
  • pH - 酸性
  • 40 °C下蚀刻速度 - 40 Å/秒
  • 蚀刻能力（ ~70%速度下降) - 65 克/加仑
  • 保质期- 1 年
  • 储存条件 - 室温
  • 过滤 - 0.2 µm
  • 推荐操作温度 - 20-80 °C （30-40 °C 最常见）
  • 冲洗 - 去离子水r
  • 光致抗蚀剂建议 - KLT6000 系列、KLT 5300 系列、HARE SQT （SU-8型）、 TRANSIST或PKP -308PI
  • 相容的材料 - 金、钛、氧化物、氮化物、硅
  • 不相容的材料 - 铝、镍、铜、镍铬合金
  • 相容的塑料 - HDPE、PP、PTFE、PFA、PVC
  • 各向同性- 具有各向同性
  • 不相容的化学品- 强碱
我们的铬蚀刻剂是一种高纯度硝酸铈铵系统，用于铬和氧化铬薄膜精确、洁净的蚀刻。兼容阳性和阴性光致抗蚀剂。我们的铬蚀刻剂通过过滤去除了0.2 微米以上的所有颗粒。 蚀刻温度因薄膜厚度不同而不同。室温下蚀刻时间在15秒至60秒之间。铬蚀刻剂应在通风橱中操作。
硝酸铈铵基蚀刻剂。室温下蚀刻速率为40埃/秒。只需用去离子水冲洗干净即可蚀刻。
铬蚀刻剂是铬基溶液，可从底物移除多余金属。这些蚀刻剂主要用于金属表面处理和电子工业。蚀刻速率为4 mm/s，可用于蚀刻镍、铜和铬基多余金属。

应用

该产品可蚀刻铝、铬、铜、镍、GaAs。它能表面氧化硅、钽/TaN，但对Si3N4, SiO2, Ti, 和 W表面没有影响
用于室温或高温条件。蚀刻干净，省去中间清洗环节。蚀刻温度随膜的厚度而改变。室温下蚀刻时间在 15 到 60 秒之间。注意，应在通风良好的通风橱内处理铬蚀刻剂。

特点和优势

设计用于铬和氧化铬薄膜的精确、清洁蚀刻。与正性和负性光致抗蚀剂均可相容。经 0.2 微米孔过器过滤以去除微粒。

警示用语：

Danger

危险分类

Aquatic Chronic 2 - Eye Dam. 1 - Met. Corr. 1 - Ox. Liq. 2 - Skin Corr. 1B - Skin Sens. 1

补充剂危害

EUH071

储存分类代码

5.1B - Oxidizing hazardous materials

WGK

WGK 3

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