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四（二甲基氨基）铪 (Ⅳ)

Name: 四（二甲基氨基）铪 (Ⅳ)
Brand: ALDRICH

packaged for use in deposition systems

别名:

TDMAH, 四(二甲胺基)铪(IV)

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关于此项目

线性分子式:

[(CH₃)₂N]₄Hf

化学文摘社编号:

19782-68-4

分子量:

354.79

NACRES:

NA.23

PubChem Substance ID:

24884811

UNSPSC Code:

12352103

MDL number:

MFCD01862473

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属性

Quality Level

100

assay

≥99.99% (trace metals analysis)

form

low-melting solid

reaction suitability

core: hafnium

mp

26-29 °C (lit.)

density

1.098 g/mL at 25 °C

SMILES string

CN(C)[Hf](N(C)C)(N(C)C)N(C)C

InChI

1S/4C2H6N.Hf/c4*1-3-2;/h4*1-2H3;/q4*-1;+4

InChI key

ZYLGGWPMIDHSEZ-UHFFFAOYSA-N

说明

General description

铪烷基酰胺是制备平滑非晶氧化铪薄膜的一种简便有效的原子层沉积前驱体。

Application

用作氧化铪纳米层压板的原子层沉积的前体，其用作半导体器件中的氧化硅的替换物。

为沉积系统包装的前体

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pictograms

GHS02,GHS05

signalword

Danger

存储类别

4.3 - Hazardous materials which set free flammable gases upon contact with water

wgk

WGK 3

flash_point_f

109.4 °F - closed cup

flash_point_c

43 °C - closed cup

ppe

Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges

Hazard Classifications

Flam. Sol. 1 - Skin Corr. 1B - Water-react. 2

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商品

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Surface morphology and crystallinity control in the atomic layer deposition (ALD) of hafnium and zirconium oxide thin films

Hausmann DM, Gordon RG

Journal of Crystal Growth, 249, 251-261 (2003)