应用
用于氮化硅 (Si3N4)、氮化镓 (GaN) 或氧化铝 (Al2O3) 的快速可控蚀刻。
特点和优势
180°C 下的蚀刻速率：
氧化铝 120Å/min
氮化硅 125Å/min
氮化镓 80Å/min
二氧化硅 1Å/min
硅 1Å/min
氧化铝 120Å/min
氮化硅 125Å/min
氮化镓 80Å/min
二氧化硅 1Å/min
硅 1Å/min
警示用语：
Danger
危险声明
危险分类
Acute Tox. 4 Oral - Eye Dam. 1 - Met. Corr. 1 - Skin Corr. 1B
储存分类代码
8B - Non-combustible corrosive hazardous materials
WGK
WGK 1
闪点(°F)
Not applicable
闪点(°C)
Not applicable
个人防护装备
Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter
法规信息
危险化学品
此项目有
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