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Merck
CN

667447

陶瓷蚀刻剂 A

别名:

Al2O3 Etch, GaN Etch, Si3N4 Etch, 氧化铝蚀刻剂, 氮化硅蚀刻剂, 氮化镓蚀刻剂

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关于此项目

UNSPSC Code:
12352300
NACRES:
NA.23
MDL number:
MFCD08705343

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Application

用于氮化硅 (Si3N4)、氮化镓 (GaN) 或氧化铝 (Al2O3) 的快速可控蚀刻。

Features and Benefits

180°C 下的蚀刻速率：
氧化铝 120Å/min
氮化硅 125Å/min
氮化镓 80Å/min
二氧化硅 1Å/min
硅 1Å/min

pictograms

CorrosionExclamation mark
GHS05,GHS07

signalword

Danger

Hazard Classifications

Acute Tox. 4 Oral - Eye Dam. 1 - Met. Corr. 1 - Skin Corr. 1B

存储类别

8B - Non-combustible corrosive hazardous materials

wgk

WGK 1

flash_point_f

Not applicable

flash_point_c

Not applicable

ppe

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter

法规信息

危险化学品
此项目有

历史批次信息供参考:

分析证书(COA)

Lot/Batch Number
MKCV9361
MKCW4222
MKCT3785
MKCP2744
MKCP1720

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